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집속이온빔장치
Focused Ion Beam
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모델명
Crossbeam 540
기기상태
사용중
담당자
허민선
E-mail
mshur@cbnu.ac.kr
위치
111호
전화번호
043-261-3125
제작사
원리 및 특성
집속이온빔장치는 매우 가늘게 집속한 이온빔을 재료표면에 주사하여 발생한 전자/원자를 검출하여 현미경상을 관찰하고 성분을 분석하거나 재료표면을 3차원으로 가공하는 기기
주요성능
○ Ion Beam
- Column Type : Capella
- Resolution : 〈 3 ㎚
- Current Range : 1 ㎀ ∼ 100 ㎁
- Tilt Angle : -4 ∼ 70。
○ SEM Beam
- Column Type : GEMINI Ⅱ
- Gun Type : Schottky Type
- Resolution : 3.0 nm at 200v, 1.8 nm at 1㎸, 0.9 nm at 15㎸
- Current Range : 10 ㎀ ∼ 300 ㎁
○ Stage
- Type : 6-axis Super eucentric(DC Motors)
- XY-Travel : 100 × 100 ㎜
- Tilt Range : -4 ∼ 70。
- Tilt Accuracy : 0.5。
응용분야
○ 금속 및 세라믹의 파단면 형태, 반도체 증착 두께 측정
○ 고분자 표면 형상, 건조된 생물조직 형태 관찰
○ 초미세가공 샘플의 구조 관찰 및 평가
○ 저가속 전압에서 고분해능 관찰 가능
○ Etching, Milling, Polishing 하면서 cross section 시료 관찰
○ TEM lamella 시료 제작
○ EDS분석 : 시료의 정성 및 정량분석과 원소분포도 분석
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