전자파 또는 전자빔을 만들어낼 때 고체 물질 내에 들어있는 많은 수의 전자를 공중으로 띄워 내야 하는데 높은 전계(electric field)를 가하여 전자가 방출되도록 하는 것이 전계방출형 주사전자현미경이다. 전계는 모양이 뾰족할수록 커지기 때문에 끝부분의 직경이 100nm 정도의 매우 날카로운 팁을 사용한다. 이러한 Schottky형의 전계방출형 주사전자현미경은 팁이 산화지르코늄으로 증착되어 있어 전자 방출 효율을 증가시키고 열방사형에 비하여 약 1000배 정도 brightness가 높으며, 최종 프로브의 크기를 결정하고 분해능에 영향을 주는 데 중요한 방사원의 크기가 5nm 이하이다. 따라서 분해능이 1.5nm이하로 매우 좋다. 또한 전류 안정도가 매우 좋기 때문에 lithography 작업에도 적합하며 낮은 가속 전압에서도 시편의 표면 미세구조를 관찰할 수 있다.