오제이전자분광기는 시료표면에 특성 전자빔(3～25eV)을 입사하고, 이때 방출하는 Auger 전자를 측정함으로써 시료표면의 조성 및 화학적인 결합상태를 알 수 있다. 에너지원으로 electron이 사용되어 도체 및 반도체에 적용이 가능함으로 도체 및 반도체 박막의 분석에 큰 장점을 가지고 있으며, electron beam의 크기가 조절 가능하므로 국소영역의 분석도 가능하다. 또한 이온빔으로 표면을 식각하여 깊이에 따른 분포도를 측정할 수 있다.

● 제작사 : ULVAC-PHI
● 모 델 명 : PHI 700
● 주요성능
- Geometry analyzer type : coaxial full CMA
- Min. Auger spatial resolution : 8 nm@1nA, 20 keV.
- Min. SEM beam size : 7 nm@1nA, 20 kV
- Min. SEM dark space resolution : 1nA 6 nm@1nA, 20 kV
- Sputter ion source : 0.1 ～ 5 keV
- Translation : X, Y, X, Tilt and Zalar Rotation
● 도입년도 및 금액 : 2005년 / 9억 5천만원

● Semiconductor devices : shorting problems, contact contamination,
cleaning residue
● Magnetic storage media : surface particles, interdiffusion of layers
● Display devices : defect particles, cleaning residue
● Glass and ceramics : grain boundary, segregation, cleaning failures,
precipitates
● Depth profile을 통한 박막의 성장 메카니즘 규명
● 표면 원소에 대한 정량 분석